Luvos Naturkosmetik Máscara Limpa Argila Curativa, 2X7,5 ml
LUVOS Heilerde Clean-Maske Naturkosmetik
Fabricantes: Heilerde-Gesellschaft Luvos Just GmbH & Co. KG
Modelo: 12955951
Dosagem: Gesichtsmaske
Conteúdo: 2X7.5 ml
Pontos: 12
Disponibilidade: Em stock
$2.06
$1.65
das farmácias alemãs para o seu endereço
Instruções de utilização para Luvos Naturkosmetik Máscara Limpa Argila Curativa, 2X7,5 ml
Luvos Healing Clay Clean Mask Cosméticos Naturais
A Luvos Healing Clay Clean Mask oferece um cuidado de limpeza profundo com efeito imediato.É adequado para todos os tipos de pele e é um cosmético natural com uma fórmula de limpeza eficaz à base de argila cicatrizante.A máscara liberta a pele de sujidades e depósitos, remove o excesso de brilho e proporciona um cuidado duradouro.A compatibilidade com a pele foi confirmada dermatologicamente, e o produto é vegano e livre de corantes, fragrâncias e conservantes sintéticos.
Para que é adequada a máscara de limpeza de argila curativa Luvos?
A máscara Luvos Clean limpa a pele suave e profundamente.Remove a névoa cinzenta e faz com que a pele pareça limpa e radiante.A fórmula clarificante, composta por precioso extrato de sálvia com zinco, argila curativa natural, hamamélis e óleo nutritivo de caroço de damasco, refina os poros, remove o brilho desagradável e comprovadamente suaviza a tez.O clareador de pele suave com óleos orgânicos limpa profundamente até mesmo a tez sensível nos poros, sem ressecá-la.Quando usada regularmente, a máscara limpa proporciona cuidado adicional e comprovadamente suaviza a superfície da pele, o que foi comprovado por um estudo de usuários derma realizado por um instituto independente.
Ingredientes ativos naturais
Os ingredientes ativos naturais da máscara de limpeza de argila curativa Luvos incluem argila curativa natural, valioso extrato de sálvia com zinco, essências de hamamélis e óleo nutritivo de caroço de damasco.Estes ingredientes libertam o rosto, pescoço e decote da sujidade e depósitos mais finos, minimizam os poros e comprovadamente nutrem e suavizam a superfície da pele com o uso regular.
Qualidade
A Luvos Healing Clay Clean Mask é um cosmético natural certificado fabricado na Alemanha.A empresa familiar Luvos com tradição de 100 anos produz este produto no mais alto padrão COSMOS NATURAL / BDIH com óleos vegetais de cultivo orgânico controlado.É vegano, livre de crueldade e amigo da pele, confirmado dermatologicamente.A máscara limpa não contém aditivos problemáticos, como microplásticos, óleo mineral, parabenos, silicones, parafinas, PEGs, cores artificiais, fragrâncias e conservantes.
Aplicação
Amasse o saco de máscara fechado.Aplique a máscara uniformemente no rosto, pescoço e decote, deixando a área dos olhos e da boca descobertas.Após cerca de 10-15 minutos, enxágue a máscara seca com água morna ou esfregue com um pano para uma descamação intensiva.A Luvos Healing Clay Clean Mask dá a cada tipo de pele uma tez pura e fresca.O creme de limpeza fino pode ser aplicado de forma fácil e uniforme e posteriormente facilmente removido massageando com água e um pano cosmético, que promove a circulação sanguínea e deixa a pele radiante e saudável.
Ingredientes ativos/ingredientes/ingredientes
A máscara de limpeza de argila curativa Luvos Naturkosmetik contém os seguintes ingredientes: Aqua, sorbitol, óleo de semente de Helianthus Annuus (girassol) *, álcool, glicerina, citrato de estearato de glicerila, Loess, álcool cetearílico, estearato de glicerila, óleo de semente de Prunus Armeniaca (damasco) *, extrato de folha de Hamamelis Virginiana (hamamélis), folha de Salvia Officinalis (sálvia). Extrato*, Silicato de Alumínio e Magnésio, PCA de Zinco, Goma Xantana, Ácido Esteárico, Ácido Palmítico, Tocoferol, Ácido Levulínico, Levulinato de Sódio, Hidróxido de Sódio, Parfum (Óleos Essenciais Naturais), Limoneno**, Citral**, Linalol**, Geraniol**, CI 77891 (Dióxido de Titânio), CI 77492 (Ferro Hidróxido).
* Matérias-primas provenientes de cultivo orgânico controlado
** Componentes do óleo perfumado natural
Nenhuma receita é necessária para este produto.
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